Óxido de itrio de pulverización térmica de semiconductores de grado industrial

Como uno de los principales materiales de pulverización térmica, el óxido de itrio en polvo puede formar un recubrimiento cerámico denso, de alta pureza y químicamente inerte en la superficie del sustrato a través de pulverización de plasma avanzada (APS),fumigación de oxígeno de alta velocidad (HVOF)Este tipo de recubrimiento es una barrera ideal contra las temperaturas ultra altas, la fuerte corrosión, la erosión del metal fundido y la erosión del plasma.
 
  
[Aplicación]
 
1Es adecuado para el procesamiento de semiconductores.

 
[Especificación]
 
1Propiedades químicas: TREO> 98,5%, Y₂¿ Qué?₃/TREO> 99,99%
2. Color: blanco
     
 El óxido de itrio, debido a sus propiedades, también puede utilizarse como aislante laminado.₂¿ Qué?₃Es el compuesto más estable termodinámicamente en el grupo de óxido. Es resistente a muchos metales fundidos reactivos como el titanio o el uranio.El óxido de itrio es todavía un material relativamente nuevo. 
 

 

 
[Características del producto]
   
    

 
[Envasado] 25 kg/poly-tambor, 500 kg/paleta

 

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